曝光一般在曝光机内进行，目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。
曝光不足，导致单体聚合不，那么在显影过程中，会使的胶膜变软，线条不清晰，色泽暗淡，脱胶。曝光过度，会造成难显影，留有残胶。
蚀刻曝光就是通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
高精度紫外平行光源通过掩膜版对涂有特定吸收波长的油墨进行紫外光照射，
3D曲面玻璃利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷的问题，具有精度高，量产性好，良率高等特点。
光刻显影曝光系统用于背接触太阳电池背面指交叉图案的制备。包含涂胶匀胶、烘烤、单面曝光和显影等功能单元的整套光刻显影曝光系统
底片尺寸的稳定性随环境的温度和贮存时间而变化。所以，底片的生产、贮存和使用采用恒温的环境，采用厚底片也能提高照相底片的尺寸稳定性。
除此以外，曝光机的真空系统和真空曝光框架材料的选择，也影响曝光成像的质量。
显影时，通过感光鼓和显影辊之间的电场作用，碳粉被吸到感光鼓曝光区域。其中曝光部位电位低于显影辊表面电位低于感光鼓未曝光部位电位。多用在数码复合机与激光打印机中。